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大型遠赤外線乾燥コンベア装置

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大型遠赤外線乾燥コンベア装置

大型遠赤外線乾燥コンベア装置

名称 大型乾燥炉
装置特徴
  1. 高温乾燥：Max230℃（温度制御　±2℃）
  2. 加熱媒体：セラミックパネルヒーター
  3. ゾーン制御：3ゾーン　6センサーインバータ制御※雰囲気温度＆乾面温度制御（冷却機構付き）
  4. 乾燥有効幅：1200mm
用途
  1. エポキシ樹脂系インクの硬化
  2. Ag、Cu等の電極パターン用導電性ペーストの硬化
  3. 異方導電性接着剤の硬化
  4. 透明導電性ポリマー硬化
  5. 透明導電性ITOインクの硬化
  6. カーボンペースト特性域への硬化乾燥
  7. プリント基板用熱熱硬化型絶縁インクの乾燥
  8. アニール処理での材料熱伸縮の安定
  9. 一般乾燥インクの乾燥状態の均一化
  10. 印刷品への乾燥時の汚染回避
遠赤外線乾燥方法の特徴
  1. 処理時間の短縮：熱に弱い材料の乾燥の際に、材料にダメージを与えず効率よく乾燥が出来る。
  2. 高品質：加熱したい材料の表面温度が高くなりすぎないうちに、必要なエネルギーを投入できるので材料深部温度上昇が早く、より均一な仕上がりが可能になります。
  3. クリーン性：加熱した空気をながす費用の無い静かな処理が可能で、工程への浮遊粉塵などの混入を防ぐことが容易です。乾燥塗膜への微小異物混入という品質問題を回避することが可能です。

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